共用施設のご紹介  ▼料金体系

共用施設

設 備 群 装 置 名 仕     様
複合極限環境
微小試験評価設備群
流動高温高圧水環境評価システム ・全長4.3m
・水温:室温〜250℃
・圧力:大気圧〜3MPa
・流量:毎分3000mL
温間等方加圧装置(WIP) ・水温:MAX200℃
・圧力:MAX17MPa
低ひずみ速度微小強度
評価システム
・測定範囲:0〜25.4mm
・最少表示量:1μm
・ロードセル:5kN
亜臨界水環境試験装置 ・水温:MAX300℃
・圧力:MAX8.8MPa
高温ナノインデンター装置
(超微小硬さ試験機)
・HYSITRON TI-950
・最小荷重:30nN
・最大荷重:2N
・600℃加熱ステージ付
・SPM像、スクラッチ試験、摩耗試験、粘弾性測定
ナノインデンター ・アカシ MZT-3
・最少荷重:0.1mN
サーマルプロファイル測定システム ・JENOPTIK社製、IR-TCM384
・解像度:384×288 pixel (768×576 RE Mode)
・温度測定範囲: -40℃〜2000℃
・測定精度: ±1.5 K (0℃〜100℃)又は ±2K
  (±2%)
気密性能評価装置 ・アルバック社製、HELIOT 711W1
・最小可検リーク量 (768×576 RE Mode)
 He: 0.1×10-8Pa・m3/sec
 H2: 0.1×10-12Pa・m3/sec
微小衝撃試験機 ・液体窒素温度〜室温
・試験片形状:1.0×1.0×20mm
 Vノッチ衝撃試験片
・ブレード落下速度の調整可能
引張試験機 ・室温〜100℃
・ロードセル:10N
・燃料電池用電解質膜を対象にスタック内環境を模
 擬した湿潤環境中での引張試験を実施
万能試験機 ・島津製作所 AG-50kNG
・最大荷重:50kN
・引張試験、曲げ試験
微小引張試験機 ・室温
・ロードセル:1N
・単繊維引張試験等
高温クリープ試験機 ・温度:〜700℃
材料解析設備群 透過電子顕微鏡(TEM) ・JEOL JEM2000FX
・EDX装置&EELS装置
・デジタル画像取得システム
電界放出型透過電子顕微鏡
(FE-TEM)
・JEOL JEM2100F
・分解能:0.23nm(粒子像)、0.10nm(格子
 像)
・最高加速電圧:200kV
・STEM装置&EDX装置、CCD&フィルム撮影
収束イオンビーム装置(FIB) ・SII SMI3050
・5〜30kV (5kV step)
・二次電子観察像分解能:4nm@30kV
・最大電流密度:30A/cm2
走査電子顕微鏡(SEM) ・JEOL JSM6400
・分解能:3 nm(二次電子像)
・加速電圧:0.2 kV〜40 kV
・SEM内インデンター装置
電界放出型走査電子顕微鏡
(FE-SEM)
・JEOL JSM6700F
・加速電圧:0.5kV〜30kV
・分解能:0.4nm
・EDS装置、反射電子像検出器
表面精密エッチングシステム ・カウフマン型イオン銃(Ar)
・加速電圧:150〜1000V
・ビーム径:10〜15mmφ
非接触表面形状精密測定システム ・ピンホールによる共焦点光学系
・赤色レーザー観察
・倍率:〜17000倍
・高さ分解能:5nm(最大観測高低差7mm)
・平面測定分解能:10nm
表面状態精密解析システム ・任意2点間の2D測定、3D測定、粗さ測定
・画像の3D表示
・任意画像間の差分計測
・画像連結(連結画像の上記解析可能)
酸素窒素分析装置 ・HORIBA EMGA 550
・試料重量:30〜50mg (最大100mg)
・測定範囲:O:0〜60wt%、N:0〜60wt%
炭素硫黄分析装置 ・HORIBA EMIA 510
・試料重量:標準1.0g
・測定範囲:C:0〜5wt%、S:0〜1wt%
材料創製設備群 ホットプレス ・荷重:50kN
・温度:〜1900℃
・不活性ガス、真空雰囲気
ナノスケールセラミック
フィルム製造装置
・膜厚:0.1〜5mm
・塗工速度:0.01〜1m/min
・塗布幅:MAX250mm
熱間等方加圧装置(HIP) ・温度:MAX2000℃
・圧力:MAX200MPa
超高温雰囲気炉 ・MAX 2100℃
・不活性ガス使用
マイクロピックアップ ・最大径:φ32mm
・セラミックス、金属
電解研磨機 ・シングルジェット
高真空ガス分析炉 ・温度:MAX1100℃
・最少検知分圧:1.3×10-11Pa
イオンミリング装置 ・加速電圧:3kV
CVI連続炉 ・温度:〜2000℃
・雰囲気ガス:CH4, MTS, H2+SiCl4, H2, Ar

料金体系

設 備 群 装 置 名 教育目的利用料 研究目的利用料
成果公開 成果非公開
複合極限環境
微小試験評価設備群
流動高温高圧水環境
評価システム
設定なし 17,000円/日 23,000円/日
温間等方加圧装置(WIP) 設定なし 3,000円/時間 4,000円/時間
低ひずみ速度微小強度
評価システム
設定なし 5,500円/日 8,000円/日
亜臨界水環境試験装置 設定なし 4,000円/時間 5,000円/時間
高温ナノインデンター装置
(超微小硬さ試験機)
設定なし 6,000円/時間 8,000円/時間
サーマルプロファイル
測定システム
設定なし 1,500円/時間 2,000円/時間
材料解析設備群 電界放射型透過電子顕微鏡
(FE-TEM)
2,000円/日 5,000円/時間 7,000円/時間
収束イオンビーム装置(FIB) 1,000円/日 5,000円/時間 7,000円/時間
電界放射型走査電子顕微鏡
(FE-SEM)
1,000円/日 3,000円/時間 4,000円/時間
表面精密エッチングシステム 3,500円/日 5,500円/時間 8,000円/時間
非接触表面形状精密
測定システム
設定なし 3,000円/時間 4,000円/時間
表面状態精密解析システム 設定なし 1,000円/時間 1,500円/時間
酸素窒素分析装置 設定なし 4,500円/日 6,000円/日
炭素硫黄分析装置 設定なし 4,500円/日 6,000円/日
材料創製設備群 ホットプレス 3,500円/日 45,000円/日 55,000円/日
ナノスケールセラミック
フィルム製造装置
設定なし 50,000円/日 65,000円/日
熱間等方加圧装置(HIP) 設定なし 55,000円/日 75,000円/日
CVI連続炉 設定なし 70,000円/日 100,000円/日

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